Silicon-oxide-like thin film deposition from hexamethyldisiloxane by means of non-equilibrium atmospheric pressure plasmas
- Die Abscheidung dünner Siliziumoxid Schichten mittels Plasmen bei Atmosphärendruck ist eine viel versprechende Alternative zu herkömmlichen Niederdrucksystemen. Ein wichtiger Schritt zum Abscheiden qualitativ hochwertiger Schichten ist ein gutes Verständnis der zugrunde liegenden Prozesse. Diese Studie beschäftigt sich mit diesen Prozessen, die mit Hilfe von Atmosphärendruck-Mikroplasmajets untersucht wurden. Eine wichtige Rolle spielen insbesondere Oberflächenreaktionen, die beispielsweise durch atomaren Sauerstoff oder angeregte Spezies ausgelöst werden. Mikroplasmajets ermöglichen hier neuartige Untersuchungsmethoden, wobei mehrere Mikroplasmajets, die mit unterschiedlichen Gasen betrieben werden, gleichzeitig dasselbe Substrat beschichten bzw. behandeln können, welches sich auf einem rotierenden Probenhalter befindet. Insbesondere Kohlenstoffverlustmechanismen bei Verwendung kohlenstoffhaltiger Ausgangsmoleküle können untersucht werden.
Author: | Rüdiger ReuterGND |
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URN: | urn:nbn:de:hbz:294-35767 |
Subtitle (English): | the role of oxygen and surface reactions |
Referee: | Achim von KeudellORCiDGND, Peter AwakowiczORCiDGND |
Document Type: | Doctoral Thesis |
Language: | English |
Date of Publication (online): | 2012/11/27 |
Date of first Publication: | 2012/11/27 |
Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie |
Date of final exam: | 2012/10/24 |
Creating Corporation: | Fakultät für Physik und Astronomie |
GND-Keyword: | Mikroplasma; Plasmachemie; Atmosphärendruckplasma; Beschichtung; Quarz |
Institutes/Facilities: | Institut für Experimentalphysik II, Reaktive Plasmen |
Dewey Decimal Classification: | Naturwissenschaften und Mathematik / Physik |
faculties: | Fakultät für Physik und Astronomie |
Licence (German): | Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |