Particle transport in technological plasmas

  • Oberflächenprozessierung mittels Zerstäubungsplasmen findet breite Anwendung in der Abscheidung dünner Schichten. Vereinfacht dargestellt werden Atome aus einem Festkörperpräkursor herausgeschlagen und anschließend durch die Prozesskammer transportiert, bis sie auf eine Wand treffen und abgeschieden werden. Für eine präzise und verlässliche Vorhersage der intrinsischen, physikalischen Vorgänge, ist die Kenntnis über Dichten und Flüsse aller relevanten Teilchenspezies unerlässlich. Eine theoretische Vorhersage dieser Kenngrößen ist unmittelbar mit einer konsistenten Beschreibung des Teilchentransports verknüpft. Letztere gibt das Thema dieser Arbeit vor: Vorgestellt wird eine physikalisch konsistente Modellierung des Transports zerstäubten Metalls durch eine inerte Gasphase mittels kinetischer Ansätze. Die Monte Carlo Methode wird als ausgewählter statistischer Simulationsansatz vorgestellt und zur Beschreibung des Teilchentransports innerhalb diverser Zerstäubungsprozesse herangezogen.

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Metadaten
Author:Jan TrieschmannGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-53077
Referee:Thomas MussenbrockGND, Peter AwakowiczGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2017/07/10
Date of first Publication:2017/07/10
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Date of final exam:2017/05/18
Creating Corporation:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Tag:Beschichten
GND-Keyword:Simulation; Entladung; Sputtern; Kinetische Theorie; Abscheidung
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gilt der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht