Die Ionenverteilungsfunktion an der Elektrode einer kapazitiv gekoppelten Hochfrequenz-Entladung

Die Ionenverteilungsfunktion an der Elektrode von kapazitiv gekoppelten Hochfrequenz-Entladungen ist eine für zahlreiche industrielle Plasmaverfahren wichtige Kenngröße. Ausgehend vom Grenzfall einer stoßfreien Hochfrequenz-Schicht und stationärer Ionenbewegung wird zunächst die Modulation der Ionendynamik durch die Hochfrequenzbedingungen bei endlicher Ionenträgheit untersucht. Aufbauend auf diesem Ergebnis werden dann Ladungsaustauschstöße in der Schicht in die Betrachtung einbezogen und die Verteilungsfunktion der Ionen an der Elektrode modelliert. Hierbei gilt der ausgeprägten Peakstruktur in der Verteilung und ihrer Formierung besondere Aufmerksamkeit. Mit ihrem Verständnis können nämlich Informationen bezüglich des Ladungsaustauschstoßquerschnitts aus Ionenverteilungsfunktionen in Hochfrequenzentladungen gezogen werden. Das entsprechende Verfahren wird vorgestellt und anhand von Proberechnungen getestet.

Metadaten
Author:	Daniel Israel GND
URN:	urn:nbn:de:hbz:294-17534
Referee:	Rainer Grauer ORCiD GND, Reinhard Schlickeiser ORCiD GND
Document Type:	Doctoral Thesis
Language:	German
Date of Publication (online):	2006/11/15
Date of first Publication:	2006/11/15
Publishing Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:	2006/10/27
Creating Corporation:	Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:	Hochfrequenzplasma / Randschicht; Energiespektrum; Ladungstransfer; Edelgasion / Modulation / Dynamik; Modulation
Institutes/Facilities:	Institut für Theoretische Physik I
Dewey Decimal Classification:	Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:	Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):	Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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