Numerical investigation of scanning electrochemical potential microscopy (SECPM)

Durch nummerische Modellierung zweier Betriebsarten der elektrochemischen Rasterpotentialmikroskopie (scanning electrochemical potential microscopy, SECPM) wurde deren genauer Messmechanismus geklärt, und ein Zusammenhang zwischen der eigentlichen Messgröße und der physikalisch gesuchten Größe, dem Potenzial, erarbeitet. Der Einfluss unterschiedlicher Spitzengeometrien wurde im Detail untersucht. Für optimale Potenzialauflösung senkrecht zur Oberfläche muss eine möglichst flache Spitze verwendet werden, während für maximale laterale Auflösung im Abbildungsmodus eine möglichst spitze Spitze zu verwenden ist. Durch Setzen unterschiedlicher Ruhepotenziale wurde der Überlapp der elektrochemischen Doppelschichten von Probe und Messspitze untersucht. Die daraus resultierende Debye-Abschirmung beeinflusst die gemessenen Potenzialkurven. Durch die Ergebnisse können Unterschiede zwischen veröffentlichten Messergebnissen und bisherigen theoretischen Vorstellungen erklärt werden.

Metadaten
Author:	Fayçal Riad Hamou GND
URN:	urn:nbn:de:hbz:294-30748
Referee:	Jörg Neugebauer GND, Andreas D. Wieck ORCiD GND
Document Type:	Doctoral Thesis
Language:	English
Date of Publication (online):	2011/02/24
Date of first Publication:	2011/02/24
Publishing Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:	2010/12/17
Creating Corporation:	Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:	Rastersondenmikroskopie; Oberflächenchemie; Debye-Abschirmung; Potenzial (Physik); Elektrochemische Doppelschicht
Institutes/Facilities:	Max-Planck-Institut für Eisenforschung, Düsseldorf
Dewey Decimal Classification:	Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:	Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):	Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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