Contribution towards ALD and MOCVD of rare earth oxides and hafnium oxide

  • Ziel dieser Arbeit ist die Herstellung metallorganischer Verbindungen, die für die Abscheidungen von dünnen Metalloxidschichten mittels MOCVD und ALD geeignet sind. In der vorliegenden Dissertation wurden verschiedene Selten-Erd- und Hafnium-Verbindungen unter inerten Bedingungen hergestellt. Ihre chemischen und thermischen Eigenschaften wurden mit verschiedenen Charakterisierungsmethoden untersucht. Die Abscheidung der dünnen Selten-Erd- und Hafnium-Oxid-Schichten erfolgte anschließend mittels MOCVD und ALD. Die chemische Zusammensetzung und die elektrischen Eigenschaften der gebildeten Dünnschichten wurden ebenfalls evaluiert.

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Metadaten
Author:Ke Xu
URN:urn:nbn:de:hbz:294-40350
Subtitle (English):from precursor evaluation to process development and thin film characterization
Referee:Ulrich KunzeORCiDGND, Anja-Verena MudringGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2014/03/24
Date of first Publication:2014/03/24
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2013/10/18
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:MOCVD-Verfahren; Atomlagenabscheidung; Seltenerdmetall; Hafnium; Dünne Schicht
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für Anorganische Chemie II, Organometallics & Materials Chemistry
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht