Contribution towards ALD and MOCVD of rare earth oxides and hafnium oxide
- Ziel dieser Arbeit ist die Herstellung metallorganischer Verbindungen, die für die Abscheidungen von dünnen Metalloxidschichten mittels MOCVD und ALD geeignet sind. In der vorliegenden Dissertation wurden verschiedene Selten-Erd- und Hafnium-Verbindungen unter inerten Bedingungen hergestellt. Ihre chemischen und thermischen Eigenschaften wurden mit verschiedenen Charakterisierungsmethoden untersucht. Die Abscheidung der dünnen Selten-Erd- und Hafnium-Oxid-Schichten erfolgte anschließend mittels MOCVD und ALD. Die chemische Zusammensetzung und die elektrischen Eigenschaften der gebildeten Dünnschichten wurden ebenfalls evaluiert.
Author: | Ke Xu |
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URN: | urn:nbn:de:hbz:294-40350 |
Subtitle (English): | from precursor evaluation to process development and thin film characterization |
Referee: | Ulrich KunzeORCiDGND, Anja-Verena MudringGND |
Document Type: | Doctoral Thesis |
Language: | English |
Date of Publication (online): | 2014/03/24 |
Date of first Publication: | 2014/03/24 |
Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie |
Date of final exam: | 2013/10/18 |
Creating Corporation: | Fakultät für Chemie und Biochemie |
GND-Keyword: | MOCVD-Verfahren; Atomlagenabscheidung; Seltenerdmetall; Hafnium; Dünne Schicht |
Institutes/Facilities: | Lehrstuhl für Anorganische Chemie II, Organometallics & Materials Chemistry |
Dewey Decimal Classification: | Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie |
Licence (German): | Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |