MOCVD of \(TiO_{2}\) thin films from Ti alkoxide and amide based precursors for photoelectrochemical applications

  • Das Hauptziel dieser Arbeit war es, stickstoffdotierte \(TiO_{2}\)-Dünnschichten herzustellen, die vor Allem photoelektrochemische Anwendung finden. In diesem Zusammenhang ist die MOCVD als Dünnschichtabscheidungsmethode verwendet worden, da diese Technik sowohl hohe Wachstumsraten und strukturierte Morphologie als auch Dotierung ermöglicht. Alle genannten Parameter sind für die Verwendung in der Photoelektrochemie von hoher Relevanz. Verschiedene metall-organische Ti-Precursor werden zur Abscheidung von \(TiO_{2}\)-Dünnschichten verwendet, wobei das SSP-Konzept zum intrinsischen dotieren der erhaltenen Schichten mit Stickstoff, auf Grund von vorhandenem Stickstoff in den Liganden, detailliert untersucht worden ist. Dies beinhaltet auch die Messung des induzierten Photostroms.

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Metadaten
Author:Sun Ja KimGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-40885
Referee:Roland A. FischerGND, Anjana DeviORCiDGND, Radim BeránekGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2014/05/15
Date of first Publication:2014/05/15
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2014/03/27
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:Photoelektrochemie; Dünne Schicht; MOCVD-Verfahren; Titandioxid; Photostrom
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für Anorganische Chemie II
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
faculties:Fakultät für Chemie und Biochemie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht