Atomic layer deposition of ZnO und \(Ga_{2}O_{3}\) thin films as transparent semiconducting oxides

  • Das Internet der Dinge (IdD) beschreibt die Vision einer globalen Infrastruktur unter Vernetzung physischer und virtueller Gegenstände und deren Zusammenarbeit mithilfe von Kommunikations- und Informationstechniken. Transparente halbleitende Oxide (TSOs) sind Schlüsselkomponenten in den elektronischen Geräten, auf denen das IdD basiert. Die vorliegende Dissertation beschreibt die Entwicklung metallorganischer Komplexe für die Herstellung von TSOs. Das Weiteren wurde demonstriert, dass schrittweise Erforschung und Weiterentwicklung der Präkursorchemie und der Prozesse essentiell sind, um die Herausforderungen im Zusammenhang mit der Atomlagenabscheidung (ALD) und der chemischen Lösungsabscheidung (CSD) zur Erzeugung von Galliumoxid und Zinkoxid zu bewältigen.

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Metadaten
Author:Richard O'DonoghueGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-56606
Subtitle (English):influence of precursors on the film growth and characteristics
Referee:Anjana DeviORCiDGND, Axel RosenhahnORCiDGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2018/04/10
Date of first Publication:2018/04/10
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2017/12/14
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:Internet der Dinge; Präkursor; Synthese; Atomlagenabscheidung; Dünne Schicht
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für Anorganische Chemie II, Inorganic Materials Chemistry
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
faculties:Fakultät für Chemie und Biochemie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht