Process control in low pressure capacitive radio frequency plasmas based on kinetic simulations

  • Diese kumulative Dissertation fasst 7 Publikationen der Autorin zusammen, die sich mit dem Thema der Prozesskontrolle in kapazitiv gekoppelten Niederdruck-Hochfrequenzplasmen (engl. CCPs) beschäftigen. Die Prozesskontrolle durch maßgeschneiderte Spannungsformen (engl. VWT), Elektrodenoberflächenanpassung und Magnetfelder werden anhand von Particle-In-Cell-Simulationen untersucht. Die Auswirkungen von VWT in geometrisch asymmetrischen Entladungen, die Elektronengeschwindigkeit und Winkelverteilungsfunktionen in Mehrfrequenz-CCPs, die Gültigkeit der klassischen Plasmaleitfähigkeit, magnetisierte CCPs bei hoher Frequenz (60 MHz) sowie die Steuerung der Plasmauniformität durch Elektrodenstrukturen und Anpassung des Oberflächenmaterials werden untersucht. Insgesamt wurden mehrere neue Konzepte für die Plasmakontrolle entdeckt, die ein hohes Potenzial für die wissensbasierte Verbesserung von Plasmaprozessen in der Halbleiterfertigung und anderen Bereichen haben.

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Metadaten
Author:Li WangORCiDGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-108494
DOI:https://doi.org/10.13154/294-10849
Title Additional (German):Prozesskontrolle in kapazitiven Niederdruck-Radiofrequenzplasmen basierend auf kinetischen Simulationen
Referee:Julian SchulzeORCiDGND, Zóltán DonkóORCiDGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2024/01/31
Date of first Publication:2024/01/31
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Date of final exam:2023/08/23
Creating Corporation:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
GND-Keyword:Plasma; Plasmatechnik; Simulation; Magnetoplasma; Kapazität
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für Angewandte Elektrodynamik und Plasmatechnik
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik
faculties:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht